为什么要在“真空”中操作？
减少污染：空气中含有大量氧气、氮气、水蒸气等，会与蒸发材料发生反应，生成氧化物、氮化物，或导致薄膜不纯、附着力差。真空环境确保了薄膜的纯净度。
增加平均自由程：在空气中，气体分子很密集，蒸发出的材料原子会频繁与气体分子碰撞，无法直线到达基片。在高真空下，气体分子极少，蒸发原子可以几乎无碰撞地直线飞行，从而能在基片上形成均匀致密的薄膜。
提供工艺稳定性：许多镀膜过程（如磁控溅射、电弧离子镀）需要激发等离子体，真空环境是产生和维持稳定等离子体的必要条件。
专注于pvd真空镀膜解决方案
特殊工艺开发定制及生产厂家
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